《光譜學(xué)與光譜分析》(月刊)創(chuàng)刊于1981年，是由中國(guó)科學(xué)技術(shù)協(xié)會(huì)主管、中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)主辦的學(xué)術(shù)性刊物。
《光譜學(xué)與光譜分析》主要刊登：激光光譜測(cè)量、紅外、拉曼、紫外、可見光譜、發(fā)射光譜、吸收光譜、激光顯微光譜、光譜化學(xué)分析、國(guó)內(nèi)外光譜化學(xué)分析最新進(jìn)展、開創(chuàng)性研究論文、學(xué)科發(fā)展前沿和最新進(jìn)展、綜合評(píng)述、問題討論、書刊評(píng)述。讀者群體：適用于冶金、地質(zhì)、機(jī)械、國(guó)防、天文等各領(lǐng)域的科學(xué)研究單位、高等院校、從事光譜學(xué)與光譜分析的研究人員、高校師生、管理干部。根據(jù)國(guó)家科技部信息研究所發(fā)布信息，中國(guó)科技期刊物理類影響因子及引文量《光譜學(xué)與光譜分析》都居前幾位。在《光譜學(xué)與光譜分析》編委會(huì)中有12位院士，所有編委都是學(xué)有所長(zhǎng)的知名專家、學(xué)者�！豆庾V學(xué)與光譜分析》的主編為黃本立院士。獲獎(jiǎng)情況：1992年北京出版局編輯質(zhì)量獎(jiǎng)；1996年中國(guó)科協(xié)優(yōu)秀科技期刊獎(jiǎng)；1997-2000獲中國(guó)科協(xié)擇優(yōu)支持基礎(chǔ)性高科技學(xué)術(shù)期刊獎(jiǎng)；2001年獲中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)優(yōu)秀期刊獎(jiǎng)。
1、來稿應(yīng)觀點(diǎn)明確，數(shù)據(jù)準(zhǔn)確、完整，文字精練，層次分明。中、英文摘要必須包含本文主要目的、方法（條件）和貢獻(xiàn)的具體簡(jiǎn)要內(nèi)容，力戒空洞。英文摘要以1000～1200字符，中文摘要以250～300個(gè)漢字為宜，摘要應(yīng)包含實(shí)驗(yàn)方法，重要的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)和結(jié)論等信息。引言部分應(yīng)扼要說明研究工作的目的、意義，前人有關(guān)工作狀況及本文貢獻(xiàn)。
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