《人工晶體學(xué)報》（月刊）創(chuàng)刊于1972年，由中材人工晶體研究院主辦。
《人工晶體學(xué)報》（本刊刊登材料科學(xué)與工程技術(shù)方面，涵蓋晶體材料：半導(dǎo)體材料、光電子材料、壓電晶體材料、納米材料、薄膜材料、超硬材料和高技術(shù)陶瓷，具有創(chuàng)新性、高水平、有重要意義的原始性研究學(xué)術(shù)論文以及反映學(xué)科最新發(fā)展?fàn)顩r的文獻綜述等中英文稿件。獲獎情況：1997年獲國家科技優(yōu)秀期刊；獲部級優(yōu)秀科技期刊獎；中國期刊方陣“雙效”期刊；1987年獲優(yōu)秀編輯二等獎。
1、文題、作者姓名（一般不超過6人）、作者單位及所在城市和郵編、摘要、關(guān)鍵詞均需中英文對照。論文如果獲得有關(guān)研究基金或課題資助，需提供基金名稱及編號，并提供第一作者的姓名、出生年、性別、職稱、學(xué)位及E-mail地址；以及聯(lián)系人姓名、職稱、電話、傳真及E-mail地址。
2、論文題目應(yīng)簡潔、準(zhǔn)確，不宜使用縮略詞；摘要（中文）字?jǐn)?shù)一般在200字左右，英文摘要字?jǐn)?shù)可稍多，不一定與中文部分完全對應(yīng)。摘要內(nèi)容應(yīng)包括論文的研究目的、方法及結(jié)果等；關(guān)鍵詞的個數(shù)為3～8個。文章字?jǐn)?shù)3000～5000字，文中量、單位及符號的使用應(yīng)符合國際標(biāo)準(zhǔn)和國家標(biāo)準(zhǔn)。注意容易混淆的外文字母的文種、大小寫、正斜體及上下角標(biāo)的正確書寫。
3、圖（含照片）、表和公式應(yīng)通篇分別編號，圖題、表題應(yīng)有中英文對照。表格應(yīng)采用三線表形式，內(nèi)容以英文表述。曲線圖應(yīng)直觀、簡潔，圖中文字用英文、量的名稱及符號、坐標(biāo)要準(zhǔn)確、清晰（物理量符號用斜體，單位用正體）并與文中一致，曲線圖的尺寸（高*寬）以100×130mm為宜，為方便修改，文中曲線圖應(yīng)采用計算機繪圖，最好用Origin格式插入，字體采用Arial，4號字（24磅），激光打印機打印。照片要求黑白分明，層次清晰。
4、參考文獻書寫格式請參考以下《人工晶體學(xué)報》參考文獻書寫規(guī)范。稿件具體格式、體例請參考近期出版的《人工晶體學(xué)報》中文版（點擊可下載范例）。
特別說明：以上雜志信息是人工晶體學(xué)報雜志社官方的基礎(chǔ)信息，本站僅協(xié)助已授權(quán)的雜志社進行在線雜志訂閱，非人工晶體學(xué)報雜志社官網(wǎng)，直投的朋友請聯(lián)系人工晶體學(xué)報雜志社。